四氟化碳氣體怎麼處理？半導體四氟化碳廢氣處理方法介紹
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近年來，隨着我國半導體工業的快速發展，四氟化碳氣體排放量逐年増加，直接排放會造成空氣污染，甚z人體吸入高濃度的四氟化碳會出現呼吸困難、嘔吐等窒息症狀。那麼四氟化碳氣體怎麼處理？k8凯发(中国)廢氣處理公司為您介紹半導體行業四氟化碳廢氣處理方法如下：
四氟化碳廢氣處理
由於四氟化碳是目前微電子工業中用量z大的等離子蝕刻氣體，因而四氟化碳廢氣主要產生於半導體產業生產工藝等離子蝕刻。目前，半導體產業四氟化碳廢氣處理方法，主要是通過直接燃燒方法，熱催化氧化方法，等離子體分解方法進行廢氣淨化。
四氟化碳氣體處理方法
k8凯发(中国)環保公司對半導體產業四氟化碳氣體處理方法主要採用直接燃燒法（TO），也稱為直接火焰燃燒，它是把廢氣中可燃的有害組分當做燃料直接燒掉，因此這種廢氣處理方法只適用於淨化可燃有害組分濃度較高的廢氣，或者是用於淨化有害組分燃燒時熱值較高的廢氣，因為有燃燒時放出的熱量能夠補償散向環境中的熱量時，才能保持燃燒區的溫度，維持燃燒的持續。
k8凯发(中国)環保廢氣處理工程案例：紹興中芯半導體行業廢氣處理項目
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